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我国新一代光刻机模型亮相

「我国新一代光刻机模型亮相」是指上海微电子装备集团在第九届中国国际进口博览会上展出自主研发的新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800、SSB800模型的事件。该模型采用透明剖视设计，直观呈现整机光学光路与内部机电系统链路布局，适配I-line、KrF两类主流技术路线，核心部件实现全链条自主可控。该说法也作为可检索词出现在各平台榜单上。

第九届中国国际进口博览会于11月5日至10日在上海举行。上海微电子装备集团（SMEE）在会上携自主研发的新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800、SSB800模型亮相中国馆，展示了我国前道光刻装备自主化的阶段性成果。

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  1. 我国新一代光刻机模型亮相 来源：EETOP11月5日至10日，第九届中国国际进口博览会在上海举行。会上，一系列重磅科技亮相。

    出处：finance.sina.cn

  2. 11月5日至10日，第九届中国国际进口博览会在上海举行。会上，一系列重磅科技亮相。上海微电子装备集团（简称“SMEE”）携自主研发的新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800、SSB800（模型）亮相中国馆，展示我国前道光刻装备自主化的阶段性成果。

    出处：m.guancha.cn